巧妙分离电气通路与散热通路的碳化硅Q

  发布时间:2026-07-11 04:43:02   作者:玩站小弟   我要评论
英飞凌CoolSiC MOSFET1200V G2系列产品采用先进的Q-DPAK顶部冷却封装,针对高功率密度与高温运行场景优化设计,适用于电动汽车充电、光伏、UPS、固态断路器、工业驱动及AI等领域。 。

英飞凌CoolSiC MOSFET1200V G2系列产品采用先进的巧妙Q-DPAK顶部冷却封装,针对高功率密度与高温运行场景优化设计,分离适用于电动汽车充电、电气的碳光伏、通路通路UPS、散热固态断路器、化硅工业驱动及AI等领域。巧妙我们现推出IMCQ120R017M2HIMCQ120R034M2H两款器件免费样品试用活动,分离诚邀工程师、电气的碳研发团队及行业小伙伴们亲身体验!通路通路



为什么选择Q-DPAK封装?散热


Q-DPAK顶部散热封装技术旨在帮助设计师简化制造流程并提高功率密度,其核心理念在于将器件的化硅电气连接(在底部)与热界面(在顶部)分离开来,从而巧妙结合了两种传统封装方式的巧妙优点。


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传统的分离TO-247封装虽然能直接安装在散热器上以获得良好的热性能,但其通孔焊接(THT)工艺在PCB生产过程中需要人工处理,电气的碳增加了制造复杂度。而标准的表面贴装技术(SMT)器件(如TO-263-7)虽然支持全自动处理,但热量必须通过导热率有限的PCB板耗散,限制了散热性能。采用绝缘金属衬底(IMS)虽能改善导热,却又会增加成本和设计复杂性。


CoolSiC Q-DPAK顶部散热封装则提供了“两全其美”的解决方案:它既保留了SMT技术所带来的全自动制造效率,又能实现媲美媲美甚至超越标准TO-247封装的热性能,通过器件顶部的专用散热面直接连接高效散热器,热量得以快速耗散,从而显著降低器件结温,提升系统可靠性。


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Q-DPAK顶部散热设计支持更优化的PCB布局,这不仅减少了寄生参数和杂散电感的影响,从而降低了开关损耗和导通损耗,还允许在标准PCB的两面布置元器件,使得整体系统设计更加紧凑和简易。结合其卓越的散热能力,设计师能够在更小的空间内处理更大的功率,最终实现更高的功率密度。


产品速览



CoolSiC 1200V G2 in Q-DPAK:在提升效率的同时,实现更高性能、更紧凑的设计


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产品特点:

■SMD顶部散热封装

■杂散电感低

■CoolSiC MOSFET 1200V G2技术具备优化的开关性能和FOM

■.XT扩散焊

■最低RDS(on)

■封装材料CTI>600, CD>4.8mm

■优异的耐湿性能

■雪崩保护、短路保护和寄生导通PTO保护


应用价值:

■更高功率密度

■支持自动化组装

■简化设计

■优异的热性能表现

■降低系统损耗

■支持950V RMS工作电压

■卓越的可靠性

■降低TCO成本和BOM成本


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